C2f6 ガス
Web来はC2F6＋O2、NF3＋O2等の混合ガスが用いられ ていた。 このうち、NF3（三フッ化窒素）はクリーニ ング速度は速いものの、有毒であり、支燃性が強いため に取り扱いが不便であるという欠点がある。 一方、C2 F6（ヘキサフルオロエタン）については取り扱い上の 危険性はないものの、クリーニング速度が低いため、上 記のような厚い堆積物を除去 … Webガス等についても排出抑制が求められるよ うになった。電子デバイス産業においては，pfc’s及 びnf 3 ，cf 6 ガスをドライエッチング工程の反応ガス 及びcvd（化学気相成長）装置等のクリーニングガ スとして使用している。よって，これらガスの実排出
C2f6 ガス
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Web i£û üýGþD P®ÐBöÿ\]W ëì í âîïaðñÅòó]W i Oø r^N} gdGHW ^ kWMNa Å K\]î ÈÅ \]^O Webガスコード ： 635 会社名 ： 高千穂化学工業株式会社 住所 ： 〒194－0004 東京都町田市鶴間七丁目16－1 ... (c2f6) 成分及び含有量： 官報公示番号 化学物質 cas no 分子量 化審法 安衛法 成分濃度 六フッ化エタン 76-16-4 138.01 （2）-88 公表物質 99.99%以上 ...
WebPFCs含有排ガスの処理方法と除害効率の評価 1．はじめに 半導体産業では，その製造工程において反応性や毒性 の高い有害ガスばかりではなく，エッチングガス（CF4， … Web139 Perfluoroethane C2F6 0.253 5.641 6.158 140 Perfluoropropane C3F8 0.1818 7.685 8.389 141 Phenol C6H6O 0.2489 3.847 4.199 142 Phosgene COCl2 0.4812 4.043 4.413 143 Phosphine PH3 0.7859 1.39 1.517 144 Phosphorus Trifluoride PF3 0.4973 3.596 3.925 145 Propane C3H8 0.3499 1.802 1.967 146 Propyl Alcohol C3H8O 0.3061 2.456 2.681
Web1 Positively Innovative ドライエッチング剤PFC-116(C2F6)は、半導体製造用の高純度エッチングガスです。 概要 - 半導体製造用のため純度は99.999vol%(5N)以上です。 - 主 … Web高圧ガス. 区分外. 区分外 ... [PDF]C2F6 六フッ化エタン 東横化学株式会社 Author: 東横化学株式会社 Created Date: 6/22/2016 10:54:27 AM ...
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